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甩带机

用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的专用设备,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作,广泛用于新型稀土永磁材料非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。

品牌:鹏程真空

型号:SDJ300

沈阳鹏程真空技术有限责任公司

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全自动电子束镀膜机

电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材,使之融化进而沉积在基片上。

品牌:鹏程真空

型号:DZS1400

沈阳鹏程真空技术有限责任公司

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派瑞林镀膜设备

Parylene涂敷后的产品具有极高的绝缘强度、耐高低温、抗腐蚀、耐酸碱、润滑、防尘、防水、防潮、防锈、透明、抗老化、生物相容性等作用。

品牌:鹏程真空

型号:PRL350

沈阳鹏程真空技术有限责任公司

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全自动钙钛矿镀膜机

利用钙钛矿型的有机金属卤化物半导体作为吸光材料的太阳能电池,即第三代太阳能电池,也称作新概念太阳能电池的研发制备。

品牌:鹏程真空

型号:ZF450

沈阳鹏程真空技术有限责任公司

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高真空非自耗电弧炉

用于探索新材料的研究,可用于熔点高达2500℃的金属合金(金属固熔体,金属间化合物等)的配制。也可用于微小颗粒金属熔炼成块体致密金属。其最大优点是熔炼过程中对样品不产生污染(其它熔炼方法中,大多会产生坩埚材料对样品的污染)。可以进行高温、高速熔化,从而可以熔炼多种难熔金属和活泼金属。

品牌:鹏程真空

型号:DHL300

沈阳鹏程真空技术有限责任公司

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全自动磁控溅射镀膜机

系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜等。

品牌:鹏程真空

型号:PCCK450

沈阳鹏程真空技术有限责任公司

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PECVD等离子体化学气相沉积系统

本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

品牌:百举捷

型号:非标定制

沈阳百举捷科学仪器有限公司

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热蒸发镀膜系统

高真空热蒸发镀膜机系统主要由蒸发沉积室、样品台系统、无机金属热蒸发电极系统、金属锂蒸发源系统、真空获得及测量系统;电控系统等部分组成,整个系统使用触摸屏全自动控制。 设备组成及技术性能 极限真空度:2x10-5Pa; 从大气抽至:从大气抽至5x10-4 Pa的时间小于40分钟; 真空室漏率:密封接口真空漏率≤5×10-8Pa•L/s;关机12小时≤2pa,

品牌:百举捷

型号:非标定制

沈阳百举捷科学仪器有限公司

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磁控离子束复合镀膜系统

真空室:Φ500mm×450mm 极限真空度:≤5×10-5Pa (经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤5.0×10-8 Pa.l/S; 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.6x10-4 Pa; 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa; 要求镀膜200nm时,误差小于±5%(只在平面样品镀膜是检测,平片样品边缘5mm不计) 自带石英晶体振荡膜厚监测仪,精度为1埃 电子束功率:10kW 系统主要由真空室、自转样品台、离子源、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成;

品牌:百举捷

型号:非标定制

沈阳百举捷科学仪器有限公司

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脉冲激光溅射沉积系统

该系统是由三套分别带进样室的沉积室组成,公用一台激光器,三个沉积室分别命名为沉积腔室一、沉积腔室二和沉积腔室三,每个进样室配装样品传递系统一套,完成进样室和沉积室之间的样品传递;具有脉冲激光溅射和磁控溅射两种镀膜方法; 脉冲激光溅射是利用激光的单脉冲能量高,方向性好,打在靶材上,其温度可高达3000-4000度,几乎能溅射出任何材料。由于单次溅射时间很短,所以制备的薄膜成分几乎与靶材的成分比例完全相同。可以生长通常的有机和无机薄膜材料,尤其适用于其它制膜设备和方法难以制备的高熔点、多元素(特别是含有气体元素的多元素)和复杂层状结构的薄膜,同时还能进行其相应的激光与物质相互作用和成膜过程的物理、化学等方面的基础研究。因此利用激光制备薄膜,不仅是具有重要学术意义和广泛应用前景的一种高精密新型制膜技术,而且是探索新材料和新器件与进行相关基础研究的一种手段。

品牌:百举捷

型号:非标定制

沈阳百举捷科学仪器有限公司

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电子束蒸发镀膜系统

极限真空度:≤8x10-6Pa(经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S; 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,15分钟可达到6×10-4Pa; 系统主要由蒸发真空室、坩埚直线运动的E型电子枪、膜厚仪、基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及控制系统等部分组成。

品牌:百举捷

型号:非标定制

沈阳百举捷科学仪器有限公司

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高真空磁控溅射镀膜系统

1 、溅射真空室:真空室为圆筒形前开门结构,尺寸Ф450mmx400mm,全不锈钢结构。可内烘烤到100~150℃,选用不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行电化学抛光钝化处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;手动前开门结构;靶安装在下盖板,基片转台在上法兰; 2 、磁控溅射系统:永磁靶(其中一个可溅射磁性材料),射频溅射与直流溅射兼容,靶内水冷;气动控制挡板组件,各靶可独立/顺次/共同工作; 500W直流电源1台; 500W全自动调谐射频电源2台, -200V直流偏压电源1台 3 、旋转转基片台 :基片通过进口加热丝加热方式,加热温度:室温—800°C,由热电偶闭环反馈控制,可控可调;基片自转由调速电机驱动,0—20转/分连续可调,样品挡板组件 1套

品牌:百举捷

型号:非标定制

沈阳百举捷科学仪器有限公司

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